金屬高溫涂層

制備金屬高溫涂層可選擇的技術手段有多種,包括物理氣相沉積( Physical VaporDeposition , PVD)熱噴涂、電鍍、化學鍍、激光熔覆等。

其中PVD和熱噴涂應用最多。PVD是利用熱蒸發或輝光放電、弧光放電等物理過程,在基材表面沉積所需涂層的技術。它包括真空蒸發鍍膜、離子鍍膜和濺射鍍膜。濺射和電子束一物理 氣相沉積( EB - PVD)是制備MCrAlY涂層的主要手段。

熱噴涂是利用熱源將噴涂材料加熱熔化或軟化,靠熱源自身的動力或外加的壓縮氣流,將熔滴霧化或推動熔粒成噴射的粒束,以--定速度噴射到基體表面形成涂層的工藝方法。熱噴涂可分成三種類型:氣體火焰噴涂、等離子噴涂(PlasmaSpraying,PS)和電弧噴涂。其中,等離子噴涂技術在高溫氧化領域應用較多,可用以制備MCrAlY金屬高溫涂層和陶瓷涂層。等離子噴涂是采用剛性非轉移型等離子弧為熱源,以噴涂粉末材料為主的熱噴涂方法。它是將金屬(或非金屬)粉末通人等離子弧焰流中加熱到熔化或半熔化狀態,并隨同等離子弧焰流以高速噴射并沉積到經過表面預處理后的工件上。近20年來,等離子噴涂技術有了飛速發展,已開發出常壓等離子噴涂、低壓等離子噴涂、水穩等離子噴涂、超聲速等離子噴涂的設備,以及一系列新的噴涂用粉末材料和功能涂層。